日本名古屋工业大学藤正督教授学术报告成功举办

    10月16日上午，日本名古屋工业大学藤正督（Masayoshi FUJI）教授作客北京化工大学，为材料电化学过程与技术北京市重点实验室40余位师生，带来题为“Synthesis and Applications of Nanosized Hollow Silica Particles & Introduction to Non-firing Ceramics”的学术报告。报告由李志林教授主持。

报告现场

    藤正督教授系统讲解了SiO₂纳米中空粒子的形成机理、制备方法及应用前景，通过翔实的数据分析和直观的图形演示，深入浅出地分析了SiO₂纳米中空粒子的制备过程、各制备方法的优缺点、材料性能及其影响因素。当谈到中空粒子的形成机理，藤正督教授强调：“从SiO₂层在内核粒子表面形成之初起，非晶状SiO₂层上就有微细小孔开放，作为内核粒子成分的碳酸钙会由此析出到溶液中，从而形成中空。由于是中空粒子，因此能够将导热率控制在低水平上。”此外，藤正督教授还就SiO₂纳米中空粒子应用于表面隔热材料的基础技术作介绍。 

    最后，藤正督教授与在场师生进行了互动交流，详细解答了师生们提出的问题。

合影留念

    藤正督教授在复合材料、陶瓷、粉体技术等领域均有深入研究，其研究成果在国际上具有广泛影响力。迄今为止，藤正督教授已发表百余篇高质量的原始论文，其中有多篇论文发表在国际影响力较大的“Langmiur”、“Adv.powder Technol”、“J.Phys.Chem”、“Journal of American Ceramic Society”等期刊杂志。