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日本名古屋工业大学藤正督教授学术报告成功举办

作者: | 来源: | 发布日期:2014-10-16 | 阅读次数:

    10月16日上午,日本名古屋工业大学藤正督(Masayoshi FUJI)教授作客北京化工大学,为材料电化学过程与技术北京市重点实验室40余位师生,带来题为“Synthesis and Applications of Nanosized Hollow Silica Particles & Introduction to Non-firing Ceramics”的学术报告。报告由李志林教授主持。


报告现场

    藤正督教授系统讲解了SiO2纳米中空粒子的形成机理、制备方法及应用前景,通过翔实的数据分析和直观的图形演示,深入浅出地分析了SiO2纳米中空粒子的制备过程、各制备方法的优缺点、材料性能及其影响因素。当谈到中空粒子的形成机理,藤正督教授强调:“从SiO2层在内核粒子表面形成之初起,非晶状SiO2层上就有微细小孔开放,作为内核粒子成分的碳酸钙会由此析出到溶液中,从而形成中空。由于是中空粒子,因此能够将导热率控制在低水平上。”此外,藤正督教授还就SiO2纳米中空粒子应用于表面隔热材料的基础技术作介绍。 

    最后,藤正督教授与在场师生进行了互动交流,详细解答了师生们提出的问题。


合影留念

    藤正督教授在复合材料、陶瓷、粉体技术等领域均有深入研究,其研究成果在国际上具有广泛影响力。迄今为止,藤正督教授已发表百余篇高质量的原始论文,其中有多篇论文发表在国际影响力较大的“Langmiur”、“Adv.powder Technol”、“J.Phys.Chem”、“Journal of American Ceramic Society”等期刊杂志。